樂(lè)山各行業(yè)對(duì)潔凈室的要求

。

在以集成電路為代表的工業(yè)環(huán)境控制中

，主要采用工業(yè)清潔技術(shù)和工業(yè)潔凈室，而在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，生物潔凈室主要用于微生物污染控制。在生物潔凈室中，這些微生物大多由細(xì)菌和真菌組成，粒徑在0.2um以上，常見(jiàn)細(xì)菌粒徑在0.5um以上，且大多依賴于其它物質(zhì)顆粒。生物污染通道不僅是通過(guò)空氣，而且還與人體和服裝的操作者有關(guān)。

在醫(yī)學(xué)研究領(lǐng)域

，生物實(shí)驗(yàn)室、無(wú)菌實(shí)驗(yàn)室和用于生化和醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)的特殊動(dòng)物飼養(yǎng)室也需要控制微生物污染。

精密機(jī)械及精細(xì)化工產(chǎn)品生產(chǎn)潔凈室要求

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展

，許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)和加工對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的粉塵濃度提出了極高的要求，這要求生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈度以及控制生產(chǎn)所需的各種相關(guān)物質(zhì)。處理。供應(yīng)質(zhì)量。例如，在膠片生產(chǎn)中，如果膠片被灰塵污染，乳液會(huì)被氧化，活性會(huì)減弱，pH值會(huì)發(fā)生變化等，從而影響膠片的照相性能。

半導(dǎo)體和集成電路生產(chǎn)潔凈室要求

半導(dǎo)體材料的提純是半導(dǎo)體器件發(fā)展的重要基礎(chǔ)

。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為了獲得高純度的硅材料，原料和中間介質(zhì)的高純度以及生產(chǎn)環(huán)境的清潔已成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個(gè)突出問(wèn)題。

集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān)，而芯片的缺陷密度與空氣中顆粒的數(shù)量有關(guān)